Nassätzverfahren in der Waferproduktion

Kontrolle der Zusammensetzung von Nassätzmitteln für die Waferproduktion

Nasschemische Prozesse werden in vielen Anwendungen eingesetzt, unter anderem in der Halbleiter- und Solarzellenproduktion. Die Überwachung mittels kontinuierlicher Echtzeitanalyse während des nasschemischen Prozesses ist erforderlich, um die Prozesssteuerung sowie die wirtschaftlichen, ökologischen und produktionstechnischen Ergebnisse zu optimieren. Schmidt + Haensch Inline-Prozessrefraktometer können diese Prozesskontrolle leisten. In der Mikrofabrikation wird das Ätzen verwendet, um Schichten von einem Wafer chemisch zu entfernen. Das Ätzen ist ein wichtiges Modul des Prozesses, und jeder Wafer wird während des Produktionsprozesses mehrmals geätzt. Gängige Nassätzmittel sind Salpetersäure in Kombination mit Flusssäure oder Salzsäure, Schwefelsäure gemischt mit Wasserstoffperoxid und Phosphorsäure. Schmidt + Haensch Refraktometer sind das perfekte Werkzeug, um die richtige Zusammensetzung von Nassätzmitteln sicherzustellen und Fehler bei der Waferherstellung zu vermeiden. Schmidt + Haensch Inline-Prozessrefraktometer (iPRs) bieten Inline-, Überwachungs- und Konzentrations-/Dosierungskontrolle direkt im Prozessstrom. Dank integrierter digitaler Schalter können die iPRs Pumpen und Ventile ferngesteuert werden. Die Schmidt + Haensch Refraktometer sind so programmiert, dass sie auf Signale reagieren, was eine direkte Prozesssteuerung in Echtzeit und einfache Automatisierungen (z.B. einfache Dosiersysteme) ohne zusätzliche Netzsteuerung ermöglicht.

Optimierung nasschemischer Halbleiterprozesse

Viele Nasschemikalien können nicht ohne weiteres recycelt, wiederverwendet oder entsorgt werden. Eine effiziente Nutzung der Nasschemikalien ist aus wirtschaftlichen und ökologischen Gründen erwünscht. Eine minimale Verschwendung dieser Nasschemikalien bei gleichzeitiger Erzielung qualitativ hochwertiger Produktionsergebnisse kann durch den Einsatz von SCHMIDT + HAENSCH inline Prozessrefraktometern erreicht werden.

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Empfohlene Messgeräte

iPR-C2

Kompaktes in-line Prozessrefraktometer

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